台积电总裁魏哲家:3nm EUV工艺进展顺利

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  7月24日,台积电总裁兼副董事长CCWei宣布其3nm EUV工艺进展顺利,并已就技术定义与早期客户进行了联系。

EUV光刻,称为ExtremeUltravioletLithography,是一种极端紫外光刻工艺。利用EUV光刻技术,芯片制造商可以继续生产更小,更快,更强大的芯片,同时仍能控制成本。因此,诸如虚拟现实(VR),自动驾驶和物联网的众所周知的技术都依赖于光刻的发展。

尽管突破10nm以下的芯片制造工艺变得更加困难,但台积电在该领域的进展并未放缓。就在今年4月,台积电宣布其采用EUV的5nm工艺处于风险生产阶段,与7nm工艺相比,同样的Cortex-A72内核实现了1.8倍的密度增长和15%的速度提升。不到四个月后,台积电总裁魏哲佳宣布,他们在N3(3nm工艺)节点的技术开发进展顺利,已经开始接触早期客户。但是,由于N3(3nm工艺)技术仍处于发展初期,台积电尚未讨论其具体特点和优势。

作为世界知名的半导体合约制造商,台积电对其EUV工艺的进展非常满意,并表示希望3nm工艺将进一步巩固其在未来行业的领先地位。

程金平

本文为第一作者的原创,未经授权不得转载

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7月24日,台积电总裁兼副董事长CCWei宣布其3nm EUV工艺进展顺利,并已就技术定义与早期客户进行了联系。

EUV光刻,称为ExtremeUltravioletLithography,是一种极端紫外光刻工艺。利用EUV光刻技术,芯片制造商可以继续生产更小,更快,更强大的芯片,同时仍能控制成本。因此,诸如虚拟现实(VR),自动驾驶和物联网的众所周知的技术都依赖于光刻的发展。

尽管突破10nm以下的芯片制造工艺变得更加困难,但台积电在该领域的进展并未放缓。就在今年4月,台积电宣布其采用EUV的5nm工艺处于风险生产阶段,与7nm工艺相比,同样的Cortex-A72内核实现了1.8倍的密度增长和15%的速度提升。不到四个月后,台积电总裁魏哲佳宣布,他们在N3(3nm工艺)节点的技术开发进展顺利,已经开始接触早期客户。但是,由于N3(3nm工艺)技术仍处于发展初期,台积电尚未讨论其具体特点和优势。

作为世界知名的半导体合约制造商,台积电对其EUV工艺的进展非常满意,并表示希望3nm工艺将进一步巩固其在未来行业的领先地位。

程金平

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